Bc. Ondřej Dvořák

Bakalářská práce

Teoretické studium fotorezistů pro EUV litografii

Theoretical studies of photoresists for EUV litography
 
 
Jazyk práce: čeština
Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 2017

Obhajoba závěrečné práce

Citační záznam

Plný text práce

Obsah online archivu závěrečné práce
Zveřejněno v Theses:
  • nikomu

Vysoká škola chemicko-technologická

Fakulta chemicko-inženýrská

Bakalářský studijní program:
Nano a mikrotechnologie v chemickém inženýrství

Práce na příbuzné téma

  • Žádné práce na příbuzné téma.