Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie – Mgr. Michal Urbánek, Ph.D.
Mgr. Michal Urbánek, Ph.D.
Doctoral thesis
Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie
Relief structures prepared by electron beam litography
Abstract:
Dizertační práce je zaměřena na litografické techniky v mikronovém a sub mikronovém rozlišení. Zaměřuje se na technologii elektronové litografie, technologii zápisu do polymerních materiálů (elektronových rezistů), následných procesů zpracování expozice, včetně vyvolání rezistu mokrou cestou. K vyhodnocení struktur připravených zápisem elektronovým svazkem se nejčastěji používá skenování reliéfu pomocí …moreAbstract:
This work deals with lithographic techniques in micron and sub micron resolution. In the first part, the spotlight is focused on e-beam lithography, exposure technology, processing after exposure and resist development. The most useful method used for evaluation of relief structures is atomic force microscopy (AFM), because in contrast with scanning electron microscopy we are able to evaluate the structures …more
Language used: Czech
Date on which the thesis was submitted / produced: 21. 6. 2012
Identifier:
https://is.muni.cz/th/tm5mg/
Thesis defence
- Date of defence: 3. 10. 2012
- Supervisor: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
- Reader: Mgr. Petr Klapetek, Ph.D., prof. RNDr. Pavel Tománek, CSc.
Citation record
Full text of thesis
Contents of on-line thesis archive
Published in Theses:- světu
Other ways of accessing the text
Institution archiving the thesis and making it accessible: Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakultaMasaryk University
Faculty of ScienceDoctoral programme / field:
Physics (4-years) / Plasma Physics
Theses on a related topic
- No theses on a related topic available.