Depozice tenkých vrstev ve výbojích za atmosférického tlaku I.

Bc. Filip Studnička

Bakalářská práce

Deposition of thin films in atmospheric pressure discharges I.

Anotace:

V předložené práci studuji dielektrické bariérové výboje hořící za atmosférického tlaku a růst tenkých vrstev v těchto výbojích ze směsi organosilikonu (hexametyldisiloxan) s dusíkem a N2O. Zaměřil jsem se zejména na difúzní formy bariérových výbojů. Provedl jsem základní elektrickou diagnostiku výbojového plazmatu a charakterizaci připravených vrstev pomocí dostupných metod (např. mikroskopie atomových sil AFM, hloubkově rozlišené indentační měření atd.). Studoval jsem vliv teploty a oxidační látky N2O na vlastnosti vrstev.

Abstract:

In the present work I studied atmospheric pressure glow discharge and the deposition of thin organosilicon films in N2 + N2O atmosphere. I performed basic electric diagnosis of plasma and the deposited films were characterised by atomic force microscopy, depth sensing indentation, etc. I studied the effects of temperature and ammount of N2O on the film properties.

Klíčová slova

deposice, organosilikon, výboj za atmosférického tlaku, deposition, organosilicon, atmospheric pressure glow discharge

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 22. 5. 2008

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 30. 6. 2008
• Vedoucí: prof. RNDr. David Trunec, CSc.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika