Určení toků atomů a iontů na substrát v průběhu magnetronového naprašování

Bc. Samuel Kurucz

Bakalářská práce

Determination of the atom and ion fluxes on the substrate during magnetron sputtering

Anotace:

V této bakalářské práci se zaměřujeme na stanovení toků iontů a atomů při magnetronovém naprašování jak pulzy vysokého výkonu (HIPIMS), tak i stejnosměrným proudem (DCMS). U těchto dvou typů naprašování porovnáváme depoziční rychlost a tok iontů při různých parametrech výboje. Byly změřeny závislosti toků iontů a atomů na výkonu, tlaku a délce pulzu. V této práci jsou zároveň popsány základní principy magnetronového naprašování, metody měření a vyhodnocování dat.

Abstract:

This thesis addresses the determination of ion and energy fluxes during high-power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) as well as direct current magnetron sputtering (DCMS). We compare the deposition rates and ion fluxes of these two types of sputtering for different discharge parameters. The dependencies for discharge power, pressure, and pulse length were measured. The basic principles of magnetron sputtering are described, as well as the method of measurement and evaluation.

Keywords

PVD, magnetron, depoziční rychlost, tok ióntů, tok atomů, naprašování, HIPIMS, quartz crystal microbalance, deposition rate, ion flux, energy flux, sputtering

Jazyk práce: angličtina

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 1. 6. 2020

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 25. 6. 2020
• Vedoucí: Mgr. Peter Klein, Ph.D.
• Oponent: doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika