Pulzní magnetronová depozice vrstev Hf-Si-B-C-N

Bc. Jitka JANDOVÁ

Master's thesis

Pulsed magnetron depozition of Hf-Si-B-C-N thin films and their properties

Anotácia:

Předkládaná diplomová práce se zabývá přípravou multikomponentních tenkých vrstev Hf-Si-B-C a Hf-Si-B-C-N metodou pulzního magnetronového naprašování. Deponované vrstvy jsou následně zkoumány z hlediska prvkového složení a struktury, mechanických, tribologických, elektrických vlastností a oxidačních odolnosti. Cílem práce je především nalezení korelací mezí procesními parametry, prvkovým složením, strukturou a funkčními vlastnostmi materiálu.

Abstract:

This thesis is focused on multicomponent Hf-Si-B-C and Hf-Si-B-C-N thin films preparation by pulsed magnetron sputtering. The elemental composition, structure, mechanical, electrical properties and oxidation resistance of deposited films were subsequently evaluated. The main aim was to find the correlations between process parameters, elemental composition, structure and functional properties of these materials.

Kľúčové slová

pulzní depozice, magnetronové naprašování, tenké vrstvy, multikomponentní systém, diboridy přechodových kovů, hafnium, Hf-Si-B-C-(N)

Jazyk práce: Czech

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 31. 7. 2014

Zverejniť od: 31. 12. 2999

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 28. 8. 2014
• Vedúci: Prof. RNDr. Jaroslav Vlček, CSc.

University of West Bohemia

Faculty of Applied Sciences

Master programme / odbor:
Applied Sciences and Computer Engineering / Applied Physics and Physical Engineering