Určování optických konstant a tlouštěk tenkých vrstev nitridu křemíku

Bc. Diana Csontosová

Bakalářská práce

Determination of the optical constants and thicknesses of silicon nitride thin films

Abstract:

In this thesis we study the optical properties of non-stoichiometric silicon nitride thin films. First, we introduce basics of the thin-film optics. Then, the methods of deposition and measuring of experimental data are presented. We also discuss the theoretical model which is used in data processing. Next, we determine thicknesses and optical constants of thin films and study their dependence on deposition parameters. At the end the results are discussed.

Abstract:

V tejto bakalárskej práci sa zaoberáme optickou charakterizáciou nestechiometrických vrstiev nitridu kremíka. Na začiatku si zosumarizujeme základné fyzikálne princípy optiky tenkých vrstiev. Ďalej predstavíme metódy ich depozície a merania experimnetálnych dát. Pozornosť venujeme tiež teoretickému modelu, ktorý sme použivali pri ich spracovaní. V nasledujúcej časti sú merania vyhodnotené, určené optické konštanyt a hrúbky vrstiev. Taktiež študujeme závislosti optických vlastností vrstiev na technologických parametroch. Nakoniec tieto výsledky diskutujeme.

Klíčová slova

vrstvy nestechiometrického nitridu kremíku, optická charakterizácia, optické konštanty, elipsometria, reflektometria, vplyv technologických parametrov, Non-stoichiometric Silicon Nitride Films, Optical Characterization, Optical Constants, Ellipsometry, Reflectometry, Effect of Technological Conditions

Jazyk práce: slovenština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 24. 5. 2018

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 25. 6. 2018
• Vedoucí: prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
• Oponent: Mgr. Daniel Franta, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika