Mgr. Václav Pekař

Bakalářská práce

Plazmochemická depozice organosilikonových tenkých vrstev

Plasma enhanced chemical vapor deposition of organosilicon thin films
Anotace:
Tématem této práce bylo nanášení tenkých polymerních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). K vybuzení plazmatu bylo používáno vysokofrekvenčního doutnavého kapacitně vázaného výboje a to jak v kontinuálním, tak i v pulzním režimu. Vrstvy byly vytvářeny z oktametylcyklotetrasiloxanu. Jejich optické vlastnosti byly zjišťovány pomocí elipsometrie a měření odrazivosti. Byla studována …více
Abstract:
This work deals with the deposition of thin polymer films by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) in radio frequency capacitive discharge. The discharge was operated in continuous wave as well as pulsed mode. The films were deposited from octamethylcyclotetrasiloxane. Their optical properties were studied by ellipsometry and reflectometry. Structure and optical properties of the films …více
 
 
Jazyk práce: čeština
Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 22. 5. 2008

Obhajoba závěrečné práce

  • Obhajoba proběhla 30. 6. 2008
  • Vedoucí: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Citační záznam

Plný text práce

Obsah online archivu závěrečné práce
Zveřejněno v Theses:
  • světu
Jak jinak získat přístup k textu
Instituce archivující a zpřístupňující práci: Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta