Využití atomic layer deposition pro přípravu TiSiO2 vrstev

Bc. Július Vida

Bachelor's thesis

Atomic layer deposition for preparation of TiSiO2 thin films

Anotácia:

V této bakalářské práci byly metodou depozice po atomárních vrstvách (atomic layer deposition) připraveny tenké vrstvy oxidu TiSiO2, s různým poměrem titanu a křemíku. Tloušťka a optické vlastnosti vrstev byly určeny pomocí elipsometrie ve viditelné a blízké ultrafialové oblasti spektra. Budoucím záměrem výzkumu nových materiálů tohoto typu je zjištování jejich dielektrických vlastností z hlediska uplatnění jako high-k dielektrika. Dalším cílem práce tedy bylo vytvořit na křemíkovém substrátu strukturu kov-oxid-polovodič (MOS) kondenzátorů. Z tohoto důvodu byla na vrstvu oxidu a také na spodní stranu substrátu nanesena hliníková vrstva. S využitím fotolitografie pak byl vytvořen vzor s mnoha kondenzátory v horní hliníkové vrstvě.

Abstract:

In this thesis, thin films of TiSiO2 oxides with different titanium-to-silicon ratio were deposited using atomic layer deposition. The thickness and optical properties of the films were determined by ellipsometry in the visible and near ultraviolet spectral range. Future research of novel TiSiO2 materials aims to investigate their dielectric properties because of their possible application as high-k dielectrics. Therefore, the second goal of the thesis was the preparation of structure of metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitors on the silicon substrate. Aluminium thin film was deposited on the oxide film and on the silicon backside. Then, photolithography was performed to create a pattern with many capacitors in the top aluminium layer.

Keywords

PE-ALD, nanolaminates, high-k, MOS capacitor, ellipsometry, photolithography, photomask

Jazyk práce: English

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 18. 5. 2017

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 21. 6. 2017
• Vedúci: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Masaryk University

Faculty of Science

Bachelor programme / odbor:
Applied Physics / Nanotechnology - Applied Physics