Globální modely plazmatu v reaktivním magnetronovém naprašování v argonu, dusíku a acetylenu

Bc. Kristína Tomanková

Bakalářská práce

Global plasma models for reactive magnetron sputtering in argon, nitrogen and acetylene

Anotace:

Cílem této práce je vyvinout globální model ke studiu reaktivního mag-netronového naprašování v argonovo-acetylenovém plasmatu. Model je založen na existujícím argonovém modelu s přidáním acetylenové kinetiky. Za pomoci existujícího dusíkového globálního modelu je porovnán vliv přidávaní acetylenu do komory s vlivem přidávaní dusíku. Následně je zkoumán vliv různých parametrů na plasmový výboj pomocí parametrických studií na acetylenovém modelu. Mezi tyto parametry patří hlavně tlak příslušného plynu v komoře a rozměry targetu.

Abstract:

The aim of this thesis is to develop a global model to study reactive magnetron sputtering in argon/acetylene plasma. The model is based on an existing argon model with addition of acetylene kinetics. The effect of adding acetylene to the chamber is compared to the effect of adding nitrogen using an existing nitrogen global model. Numerous parametric studies are then performed using the acetylene global model to study the influence of various parameters on the plasma discharge. These parameters include mainly pressure of the respective gas in the chamber and dimensions of the target.

Keywords

magnetronové naprašování, reaktivní magnetronové naprašování, argon, acetylen, plasmový výboj, globální model, parametrická studie, magnetron sputtering, reactive magnetron sputtering, acetylene, plasma discharge, global model, parametric study

Jazyk práce: angličtina

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 17. 6. 2021

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 13. 7. 2021
• Vedoucí: Mgr. Adam Obrusník, Ph.D.
• Oponent: PhD. Pedro Arsénio Nunes Aleixo Viegas

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika