Plazmová úprava povrchu krystalického křemíku

Bc. Martin Haničinec

Diplomová práce

Plasma surface modification of crystalline silicon

Anotace:

V předložené diplomové práci studujeme plazmové úpravy krystalického křemíku s využitím difúzního koplanárního povrchového bariérového výboje (DCSBD) buzeného za atmosférického tlaku. Byly studovány povrchové vlastnosti křemíku po plazmové úpravě a vliv podmínek opracování, krystalografické orientace křemíku a pracovního plynu na výslednou modifikaci a stárnutí povrchu. Vlastnosti povrchové vrstvy křemíkového substrátu po plazmovém opracování byly studovány technikami, jako AFM, SEM a EDX a byla též určována povrchová energie a smáčivost modifikovaných povrchů.

Abstract:

In the present work we study plasma modifications of crystalline silicon surface in diffuse coplanar barrier discharge (DCSBD) generated in atmospheric pressure. Properties of plasma modified silicon surface were studied and the influences of processing conditions, crystallographic orientation of silicon surface and various working gases on the plasma modification of the surface and its aging. Surface properties of silicon substrate after plasma modification were studied by the means of AFM, SEM and EDX. Also the surface energy and wettability of plasma modified surfaces were measured.

Klíčová slova

bariérový výboj, barrier discharge, plazma, plasma, křemík, silicon, povrchová úprava, surface modification

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 14. 5. 2012

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 12. 6. 2012
• Vedoucí: doc. Mgr. Pavel Sťahel, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Magisterský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika plazmatu