Studium změny chování reaktivního magnetronového naprašování po přidání vodíku

Bc. Jakub Nekvapil

Bakalářská práce

Influence of hydrogen on behaviour of reactive magnetron sputtering

Anotace:

Tato bakalářská práce se věnuje studiu reaktivního magnetronového naprašování za připouštění směsí Ar+O2, Ar+H2 a Ar+O2+H2. V první části je popsán princip metody magnetronového naprašování a zejména fyzikální procesy ovlivňující proces reaktivního magnetronového naprašování. V praktické části je zkoumáno hysterezní chování depozičního procesu samostatně pro každou z prvních dvou zmíněných směsí. Bylo ověřeno, že vodík i kyslík vystupují v procesu jako reaktivní plyny. Výsledků je použito při popisu změny chování systému za připouštění směsi Ar+O2+H2. Proces depozice titanoxidové vrstvy v této směsi vykazuje parametry depozice za přítomnosti dvou reaktivních plynů.

Abstract:

This thesis studies reactive magnetron sputtering in Ar+O2, Ar+H2 and Ar+O2+H2 mixtures. The first part describes the basic principles of magnetron sputtering, especially the physical processes influencing the reactive magnetron sputtering process. The practical part analyzes the hysteresis of the deposition process for the first two mixtures separately. It was verified that both hydrogen and oxygen act as reactive gases in the process. The results are used to describe the change of the system’s behaviour with the Ar+O2+H2 mixture. The deposition process of a titanium oxide layer in the latter mixture shows deposition parameters similar to the case of two reactive gases, what is very complex system.

Klíčová slova

Reaktivní magnetronové naprašování, TiO2, Směs Ar+O2+H2, Reactive magnetron sputtering, Gas mixture of Ar+O2+H2

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 21. 5. 2012

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 22. 6. 2012
• Vedoucí: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika