Vyvážené a nevyvážené magnetického pole pro průmyslový depoziční reaktor Alcatel SCM 650

Ing. Mgr. Jana Hanusová

Bakalářská práce

Balanced and unbalanced magnetics for industrial deposition reactor Alcatel SCM 650

Anotace:

Tato práce se věnuje studiu vyváženého a nevyváženého magnetického pole v depozičním reaktoru Alcatel SCM 650. První část se zabývá základními fyzikálními principy naprašování a vlivem magnetického pole na nabité částice. Byly studovány možnosti realizace vyváženého a nevyváženého magnetronu, jejich vliv na celý depoziční proces. Ve druhé části je popsán způsob měření a klasifikace magnetických polí. Byl diskutován význam nulového bodu.

Abstract:

This work is dedicated to studying of balanced and unbalanced magnetic fields in a deposition reactor Alcatel SCM 650. The first part is concerned with basic physical principles of sputtering and effects of magnetic field on charged particle. Possibilities of realization of a balanced and an unbalanced magnetron were studied, their effect on a whole deposition process. An importance of a null-point was discussed.

Klíčová slova

naprašování, vyvážený magnetron, nevyvážený magnetron, klasifikace magnetických polí, nulový bod sputtering, balanced magnetron, unbalanced magnetron, classification of magnetics, null-point

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 25. 5. 2009

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 29. 6. 2009
• Vedoucí: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika