Naprašování nanokompozitních vrstev Ti-Si-O-N a jejich vlastnosti

Michal ZÍTEK

Bakalářská práce

Sputtering of Ti-Si-O-N nanocomposite films and their properties

Anotace:

Předmětem této práce je příprava tenkých vrstev Ti-Si-O-N pomocí DC pulzního nevyváže-ného magnetronového naprašování. Byly použity dva skládané Si-Ti terče s různým poměrem Si a Ti v erozivní zóně pro přípravu dvou sérií vzorků. Reaktivní plyn (O2) byl napouštěn pulzně. Byl zkoumán vliv pracovního cyklu při pulzním napouštění O2 na strukturu, depoziční rychlost a optické a mechanické vlastnosti. Struktura byla zkoumána rentgenovou difrakcí. Optické vlastnosti byly zjišťovány pomocí spektrofotometru a elipsometru. Mechanické vlastnosti byly určovány ze zkoušky mikrotvrdosti.

Abstract:

The subject of this thesis is the deposition of Ti-Si-O-N thin films using a pulsed DC reactive unbalanced magnetron sputtering. There were used two stacked Si-Ti targets with a different ratio of Si and Ti in the erosive zone for the deposition of samples from two series. Reactive gas pulsing process was used for oxygen. The duty cycle of oxygen on structure, deposition rate, optical and mechanical properties of the obtained films have been analysed. The structure of the films was characterized by X-ray diffraction. The optical properties were investigated by spectrophotometer and ellipsometry. Mechanical properties were determined of microhardness test.

Klíčová slova

Ti-Si-O-N, tenké vrstvy, reaktivní magnetronové naprašování, mechanické vlastnosti, optické vlastnosti

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 29. 5. 2012

Zveřejnit od: 29. 5. 2012

Obhajoba závěrečné práce

• Vedoucí: Prof. Ing. Jindřich Musil, DrSc.

ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI

Fakulta aplikovaných věd

Bakalářský studijní program / obor:
Aplikované vědy a informatika / Aplikovaná a inženýrská fyzika