Mgr. Dana Skácelová, Ph.D.

Doctoral thesis

Modification of semiconductors and oxides in plasma generated at atmospheric pressure

Modification of semiconductors and oxides in plasma generated at atmospheric pressure
Abstract:
Tato disertační práce je věnována studiu modifikace polovodičů a jejich oxidů v plazmatu generovaném za atmosférického tlaku. Jako zdroj plazmatu byl použit difúzní koplanární povrchový bariérový výboj (DCSBD) buzený za atmosférického tlaku v různých pracovních plynech. Byl zkoumán vliv plazmatu na změnu povrchových vlastností krystalického křemíku a SiO2. V závislosti na době expozice, pracovním plynu …more
Abstract:
This thesis is dedicated to the study of modification of semiconductors and their oxides in plasma generated at atmospheric pressure. The plasma modification was carried out using Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) operating in ambient air and in various gases and their mixtures. The influence of plasma modification on the crystalline silicon surface and silicon dioxide properties were …more
 

Keywords

DBD DCSBD plazmová oxidace plazmové čištění plazmová aktivace křemíkové wafery DBD plasma oxidation plasma cleaning plasma activation silicon wafers
 
Language used: English
Date on which the thesis was submitted / produced: 4. 11. 2014
Identifier: https://is.muni.cz/th/emnb3/

Thesis defence

  • Date of defence: 1. 12. 2014
  • Supervisor: prof. RNDr. Mirko Černák, CSc.
  • Reader: doc. RNDr. Petr Sládek, CSc., doc. RNDr. Miroslav Zahoran, CSc.

Citation record

Cite this text

Full text of thesis

Contents of on-line thesis archive
Published in Theses:
  • světu
Other ways of accessing the text
Institution archiving the thesis and making it accessible: Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta
Složka Reference to the local database directory of the institution