Zpět na vyhledávání

Dušan Poštulka

Bakalářská práce

Studium 3D-defektů po epitaxní depozici tenkých vrstev křemíku CVD metodou

Study of 3D-defects after epitaxial deposition of thin layers of silicon by the CVD method
Anotace:
Tato práce je věnována studiu výroby křemíkových desek, epitaxnímu růstu křemíkových vrstev metodou chemické depozice par na křemíkových deskách, coby substrátu a následně vzniklým poepitaxním 3D-defektům zvané nodules. Využitím softwaru pro plánování experimentu (JMP) byly navrhnuty nové parametry chemické depozice k minimalizaci velikosti popřípadě četnosti nodules na neleštěné straně křemíkové desky …více
Abstract:
The bachelor thesis is devoted to the study of the production of silicon wafers, epitaxial growth of silicon films by chemical vapor deposition on silicon wafers, as a substrate, and subsequently resulting after-epitaxial 3D-defects called nodules. Using software planning experiment (JMP) were designed to the new parameters of the chemical deposition of minimizing the size or frequency of nodules on …více
 

Klíčová slova

křemíková deska epitaxní růst chemická depozice par 3D-defekty nodules

Keywords

silicon wafer epitaxial growth chemical vapor deposition 3D-defects nodules
 
Jazyk práce: čeština
Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 15. 5. 2017
Identifikátor: http://hdl.handle.net/10084/117217

Obhajoba závěrečné práce

  • Obhajoba proběhla 6. 6. 2017
  • Vedoucí: Karla Čech Barabaszová
  • Oponent: Jiří Luňáček

Citační záznam

Citovat tuto práci

Plný text práce

Právo: Plné texty vysokoškolských kvalifikačních prací obhájených na Vysoké škole báňské - Technické univerzitě Ostrava jsou uloženy v repozitáři DSpace. Přístup k plným textům mají všichni uživatelé bez omezení. Přístup je omezen pouze ve výjimečných případech, zpravidla z důvodu ochrany duševního vlastnictví. Nepřístupné práce jsou označeny jako closedAccess nebo embargoedAccess. Tištěné verze prácí jsou uloženy v Ústřední knihovně VŠB-TUO a jsou prezenčně přístupné ve studovně diplomových prací. Další nakládání s prací (kopírování, opisy, MVS) se řídí Knihovní a výpůjčním řádem Ústřední knihovny VŠB-TUO.

Obsah online archivu závěrečné práce
Zveřejněno v Theses:
  • autentizovaným zaměstnancům ze stejné školy/fakulty
Jak jinak získat přístup k textu
Instituce archivující a zpřístupňující práci: VŠB - Technická univerzita Ostrava