Jaroslav Navrátil

Bachelor's thesis

Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie

Application of Polymers for Electron Beam Lithography
Abstract:
Tato práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu struktur v polymerním rezistu PMMA pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolávání rezistu a vyhodnocení struktur pomocí optického mikroskopu, mechanického profilemetru a mikroskopu atomárních sil (AFM).
Abstract:
This bachelor thesis is focusing on the technique of electron-beam lithography and preparation of structures in polymer resist PMMA using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and evaluation of structures using an optical microscope, a mechanical profilometer and an atomic force microscope (AFM).
 
 
Language used: Czech
Date on which the thesis was submitted / produced: 20. 5. 2020

Thesis defence

  • Supervisor: Mgr. Michal Urbánek, Ph.D.

Citation record

The right form of listing the thesis as a source quoted

Navrátil, Jaroslav. Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie. Zlín, 2020. bakalářská práce (Bc.). Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická

Full text of thesis

Contents of on-line thesis archive
Published in Theses:
  • autentizovaným zaměstnancům ze stejné školy/fakulty
Other ways of accessing the text
Institution archiving the thesis and making it accessible: Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně, Fakulta technologická
Plny text prace je k dispozici v elektronicke podobe

Tomas Bata University in Zlín

Faculty of Technology

Bachelor programme / field:
Chemistry and Materials Technology / Materials Engineering