Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie

Jaroslav Navrátil

Bakalářská práce

Application of Polymers for Electron Beam Lithography

Anotace:

Tato práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu struktur v polymerním rezistu PMMA pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolávání rezistu a vyhodnocení struktur pomocí optického mikroskopu, mechanického profilemetru a mikroskopu atomárních sil (AFM).

Abstract:

This bachelor thesis is focusing on the technique of electron-beam lithography and preparation of structures in polymer resist PMMA using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and evaluation of structures using an optical microscope, a mechanical profilometer and an atomic force microscope (AFM).

Klíčová slova

Elektronová litografie, polymerní rezist, proces vyvolání, kontrast rezistu, optická mikroskopie, mechanická profilometrie, AFM

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 20. 5. 2020

Obhajoba závěrečné práce

Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně

Fakulta technologická

Bakalářský studijní program / obor:
Chemie a technologie materiálů / Materiálové inženýrství