Mgr. Jiří Havelka

Bachelor's thesis

Strukturní analýza vodivé vrstvy naprášené na křemíkovou desku

Structure analysis of a conductive layer on a silicon wafer
Anotácia:
Předložená práce se zabývá strukturní analýzou vodivé vrstvy hliníku (resp. AlCuSi) naprášené na křemíkové desce o průměru 100 mm. V první části práce jsou obsaženy základní poznatky o výrobě polovodičových součástek. Zejména půjde o seznámení se s vlastnostmi křemíku, jeho oxidací, s provedením metalizace desky a také s folitografií, kterou jsme vyrobili pasivní součástky na desce. V další části se …viac
Abstract:
In the presented work, we examine structure properties of a conductive layer of AlCuSi on a silicon wafer of 4 inches in diameter. First part of the work introduces elementary findings about producing semiconductor wafers and devices. Especially we discuss the properties of silicon, its oxidation, the metallization, and the pholitography - the procedure of creating the structure topology of passive …viac
 

Kľúčové slová

strukturní analýza rezistivita metalizace kontaktní profilometrie drsnost RTG odrazivost tenká vrstva structure analysis resistivity metallization stylus profilometry roughness X-ray reflectivity thin layer
 
Jazyk práce: Czech
Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 20. 5. 2010
Identifikátor: https://is.muni.cz/th/ff4x4/

Obhajoba závěrečné práce

  • Obhajoba proběhla 29. 6. 2010
  • Vedúci: doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D.

Citační záznam

Citovat tuto práci

Plný text práce

Obsah online archivu závěrečné práce
Zveřejněno v Theses:
  • světu
Jak jinak získat přístup k textu
Instituce archivující a zpřístupňující práci: Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta
Složka Odkaz na adresář do lokálního úložiště instituce