Zpětnovazební řízení reaktivního magnetronového naprašování zařízením Speedflo

Bc. Peter Klein, Ph.D.

Master's thesis

Feedback system to control reactive magnetron sputtering

Abstract:

This work is dedicated to the study of control and theoretical modeling of reactive magnetron sputtering process. Physical properties of magnetron sputtering and hysteresis behavior by inlet of reactive gas are described. Commercially used device Speedflo, which is able to feedback control this process, is presented and tested in detail. The abilities to control process of reactive magnetron sputtering by this device using different parameters and under different circumstances are experimentally measured. Modified numerical model based on Bergs model is described.

Abstract:

Táto práca je venovaná štúdiu riadenia a teoretického modelovania procesu reaktívneho magnetrónového naprašovania. Opísané sú tu fyzikálne princípy samotného magnetrónového naprašovania ako aj hysterézne správanie pri pripustení reaktívneho plynu. Je tu prezentované a podrobne otestované komerčne používané zariadenie Speedflo, ktoré umožňuje spätnoväzobné riadenie takéhoto procesu. Pri rôzne definovaných parametroch a podmienkach sú experimentálne overené schopnosti tohto zariadenia riadiť proces reaktívneho magnetrónového naprašovania. Je tu popísaný upravený numerický model vychádzajúci pôvodne z Bergovho modelu.

Kľúčové slová

Magnetrón, Naprašovanie, Speedflo, Sputtering

Jazyk práce: Slovak

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 14. 5. 2012

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 12. 6. 2012
• Vedúci: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Masaryk University

Faculty of Science

Master programme / odbor:
Physics / Plasma Physics