Zpět na vyhledávání

Bc. Peter Repiščák

Bakalářská práce

Plazmochemická depozice vrstev vhodných pro aplikaci na lékařské implantáty

Plasmachemical deposition of films suitable for application on biomedical implants
Anotace:
Témou tejto práce bola plazmochemická depozícia tenkých vrstiev s použitím metódy plazmochemickej depozície (PECVD). Predpokladá sa možné využitie takto pripravených vrstiev na povrchové ošetrenie lekárskych implantátov. Vysokofrekvenčný kapacitne viazaný tlejivý výboj (rf CCP glow discharge) bol použitý k vybudeniu plazmy. Zamerali sme sa hlavne na depozíciu diamond-like carbon DLCH vrstiev, prípadne …více
Abstract:
Aim of this thesis was plasmachemical deposition of thin films suitable for application on biomedical implants. Films were deposited utilizing Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) which was initiated by radio frequency capacitively coupled glow discharge (rf CCP glow discharge). A diamond-like carbon (DLCH) films were mainly used in this work. Further, an DLCH with admixtures of other …více
 

Keywords

Kľúčové slová tenké vrstvy PECVD DLCH optické vlastnosti povrchová energia Keywords thin films optical properties SFE
 
Jazyk práce: angličtina
Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 1. 6. 2009
Identifikátor: https://is.muni.cz/th/xxd5q/

Obhajoba závěrečné práce

  • Obhajoba proběhla 1. 7. 2009
  • Vedoucí: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Citační záznam

Citovat tuto práci

Plný text práce

Obsah online archivu závěrečné práce
Zveřejněno v Theses:
  • světu
Jak jinak získat přístup k textu
Instituce archivující a zpřístupňující práci: Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta
Složka Odkaz na adresář do lokálního úložiště instituce