Určování pnutí v tenkých vrstvách

Mgr. Miloš Hronček

Bakalářská práce

Strain analysis in thin layers

Abstract:

The content of this work is description of experiments that led to the identification of stress in thin CN_X films deposited on Si substrate with (001) orientation. The theoretical part deals with the general analysis of stress and deformation of the continuum and the relationship between them. The explanation of the Stoney’s equation is then based on this analysis. Experimental section describes the curvature measurement by X-ray diffraction.

Abstract:

Obsahom tejto práce je opis experimentov, ktoré viedli k určeniu napätia v tenkých CN_X vrstvách deponovaných na Si substráte s orientáciou (001). Teoretická časť sa zaoberá všeobecným rozborom napätia a deformácie kontinua a vzťahu medzi nimi. Na základe tohto rozboru je potom vysvetlený Stoneyho vzťah. Experimentálna časť opisuje meranie krivosti pomocou RTG difrakcie.

Klíčová slova

tenká vrstva, RTG difrakcia, krivosť, tenzor napatia, napätie, thin layer, X-ray diffraction, curvature, stress tensor, stress

Jazyk práce: slovenština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 20. 5. 2011

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 21. 6. 2012
• Vedoucí: Mgr. Ondřej Caha, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika