Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

Bc. Jaroslav Navrátil

Diplomová práce

Polymer Resists for E-beam Writing

Anotace:

Tato diplomová práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu mikrostruktur v komerčně dostupných materiálech Sigma Aldrich fotorezist a KMPR 1010 pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolání a nastavení elektronového svazku. Vyhodnocení mikrostruktur probíhá za pomocí optického mikroskopu, mechanického profilometru a skenovacího elektronového mikroskopu (SEM).

Abstract:

This diploma thesis focuses on the technique of electron lithography and the preparation of microstructures in commercially available material Sigma Aldrich photoresist and KMPR 1010 phooresist using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and electron beam setting. The microstructures are evaluated using an optical microscope, a mechanical profilometer and a scanning electron microscope (SEM).

Klíčová slova

Elektronová litografie, polymerní rezist, proces vyvolání, optická mikroskopie, mechanická profilometrie, Sigma Aldrich fotorezist, KMPR 1010

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 13. 5. 2022

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 9. 6. 2022
• Vedoucí: Mgr. Michal Urbánek, Ph.D.

Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně

Fakulta technologická

Magisterský studijní program / obor:
Chemie a technologie materiálů / Materiálové inženýrství