Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

Bc. Jaroslav Navrátil

Master's thesis

Polymer Resists for E-beam Writing

Abstract:

Tato diplomová práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu mikrostruktur v komerčně dostupných materiálech Sigma Aldrich fotorezist a KMPR 1010 pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolání a nastavení elektronového svazku. Vyhodnocení mikrostruktur probíhá za pomocí optického mikroskopu, mechanického profilometru a skenovacího elektronového mikroskopu (SEM).

Abstract:

This diploma thesis focuses on the technique of electron lithography and the preparation of microstructures in commercially available material Sigma Aldrich photoresist and KMPR 1010 phooresist using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and electron beam setting. The microstructures are evaluated using an optical microscope, a mechanical profilometer and a scanning electron microscope (SEM).

Keywords

Elektronová litografie, polymerní rezist, proces vyvolání, optická mikroskopie, mechanická profilometrie, Sigma Aldrich fotorezist, KMPR 1010

Language used: Czech

Date on which the thesis was submitted / produced: 13. 5. 2022

Thesis defence

• Date of defence: 9. 6. 2022

Tomas Bata University in Zlín

Faculty of Technology

Master programme / field:
Chemistry and Materials Technology / Materials Engineering