Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem – Bc. Jaroslav Navrátil
Bc. Jaroslav Navrátil
Master's thesis
Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem
Polymer Resists for E-beam Writing
Anotácia:
Tato diplomová práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu mikrostruktur v komerčně dostupných materiálech Sigma Aldrich fotorezist a KMPR 1010 pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolání a nastavení elektronového svazku. Vyhodnocení mikrostruktur probíhá za pomocí optického mikroskopu, mechanického profilometru a skenovacího elektronového mikroskopu …viacAbstract:
This diploma thesis focuses on the technique of electron lithography and the preparation of microstructures in commercially available material Sigma Aldrich photoresist and KMPR 1010 phooresist using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and electron beam setting. The microstructures are evaluated using an optical microscope, a mechanical profilometer and a …viac
Jazyk práce: Czech
Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 13. 5. 2022
Obhajoba závěrečné práce
- Obhajoba proběhla 9. 6. 2022
Citační záznam
Jak správně citovat práci
Navrátil, Jaroslav. Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem. Zlín, 2022. diplomová práce (Ing.). Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická
Plný text práce
Obsah online archivu závěrečné práce
Zveřejněno v Theses:- autentizovaným zaměstnancům ze stejné školy/fakulty
Jak jinak získat přístup k textu
Instituce archivující a zpřístupňující práci: Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně, Fakulta technologickáPlny text prace je k dispozici v elektronicke podobe
Tomas Bata University in Zlín
Faculty of TechnologyMaster programme / odbor:
Chemistry and Materials Technology / Materials Engineering
Práce na příbuzné téma
-
Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie
Jaroslav Navrátil -
Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie
Jaroslav Navrátil -
Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie
Jaroslav Navrátil