Pulzní magnetronová depozice tenkovrstvých materiálů ze systému Zr-Si-B-C-N

Tomáš VYTISK

Bakalářská práce

Pulsed magnetron deposition of Zr-Si-B-C-N thin films

Anotace:

Tato práce popisuje současnou problematiku tenkých vrstev na bázi Zr a B4C. Ukazuje jakých výsledků se do této doby dosáhlo a jaké jsou další možnosti. V další části práce jsou popsány metody tvorby tenkovrstvých systémů zejména pulzní magnetronová depozice. Dále pak metody studia a hodnocení vlastností vrstev (Mechanické, elektrické vlastnosti a oxidační odolnost vrstev za vysokých teplot). V závěru práce jsou prezentovány výsledky, kterých bylo dosaženo při tvorbě Zr-Si-B-C-N vrstev.

Abstract:

This work investigates current problems of thin films based on Zr and B4C. It shows present achievements and opportunities of this field of study. In next part of the work are described methods of deposition of thin films especially pulsed magnetron deposition. Furthermore methods of observation and study of properties of thin films are described. For example: mechanical and electrical properties and high temperature oxidation resistance. The results of deposition of Zr-Si-B-C-N are present at the end of the work.

Klíčová slova

Tenké vrstvy, magnetronová depozice, naprašování, Zr-Si-B-C-N, mechanické vlastnosti, rezistivita, oxidační odolnost

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 28. 5. 2012

Zveřejnit od: 31. 12. 2999

Obhajoba závěrečné práce

• Vedoucí: Prof. RNDr. Jaroslav Vlček, CSc.

ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI

Fakulta aplikovaných věd

Bakalářský studijní program / obor:
Aplikované vědy a informatika / Aplikovaná a inženýrská fyzika