Depozice dusíkem dopovaných organosilikonových tenkých vrstev pomocí plazmatu radiofrekvenčního doutnavého výboje

Bc. Roman Přibyl

Bakalářská práce

Deposition of nitrogen doped thin films using plasma of radiofrequency glow discharges

Anotace:

Práce se zabývá přípravou a následnou analýzou tenkých vrstev. Organosilikonové vrstvy byly připraveny pomocí plazmatem asistované depozice z plynné fáze za použití kapacitně vázaného radiofrekvenčního výboje. Vrstvy se deponovaly v atmosféře složené z hexamethyldisiloxanu a dusíku. Po depozici byly vrstvy vystaveny laboratorním podmínkám, při kterých byla studována jejich stabilita. Mechanická stabilita vrstev v laboratorních podmínkách byla studována pomocí mikroindentačních metod, které umožnily popsat změnu mechanických vlastností způsobených pronikáním vlhkosti do vrstev. Změny mechanických vlastností byly dále porovnávány s chemickými změnami ve vrstvách. V práci je diskutována souvislost mezi změnami mechanických vlastností a chemické struktury připravených tenkých vrstev.

Abstract:

This study is focused on preparation and analysis of thin films. Organosilicon films were prepared by means of plasma enhanced chemical vapor deposition using capacitively coupled RF glow discharges. Thin films were deposited in mixture of hexamethyldisiloxane (HMDSO) and nitrogen. After the deposition the films were exposed to the laboratory environment and their environmental stability was studied. The environmental stability was mainly studied by microindentation techniques, which enabled us to evaluate the changes in the mechanical properties caused by water uptake ability of films in humid environment. The changes in mechanical properties were studied with respect to their chemical composition. The relationship between the mechanical properties and chemical structure changes in films was discussed.

Klíčová slova

Tenké vrstvy, dusíkové vrstvy, HMDSO, hexamethyldisiloxan, FTIR, mechanické vlastnosti

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 24. 5. 2018

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 22. 6. 2018
• Vedoucí: doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D.
• Oponent: prof. RNDr. Vladislav Navrátil, CSc.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Aplikovaná fyzika / Nanotechnologie - aplikovaná fyzika