Plazmová úprava povrchu krystalického křemíku – Bc. Martin Haničinec
Bc. Martin Haničinec
Master's thesis
Plazmová úprava povrchu krystalického křemíku
Plasma surface modification of crystalline silicon
Anotácia:
V předložené diplomové práci studujeme plazmové úpravy krystalického křemíku s využitím difúzního koplanárního povrchového bariérového výboje (DCSBD) buzeného za atmosférického tlaku. Byly studovány povrchové vlastnosti křemíku po plazmové úpravě a vliv podmínek opracování, krystalografické orientace křemíku a pracovního plynu na výslednou modifikaci a stárnutí povrchu. Vlastnosti povrchové vrstvy …viacAbstract:
In the present work we study plasma modifications of crystalline silicon surface in diffuse coplanar barrier discharge (DCSBD) generated in atmospheric pressure. Properties of plasma modified silicon surface were studied and the influences of processing conditions, crystallographic orientation of silicon surface and various working gases on the plasma modification of the surface and its aging. Surface …viac
Jazyk práce: Czech
Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 14. 5. 2012
Identifikátor:
https://is.muni.cz/th/euwrt/
Obhajoba závěrečné práce
- Obhajoba proběhla 12. 6. 2012
- Vedúci: doc. Mgr. Pavel Sťahel, Ph.D.
Plný text práce
Obsah online archivu závěrečné práce
Zveřejněno v Theses:- světu
Jak jinak získat přístup k textu
Instituce archivující a zpřístupňující práci: Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakultaMasaryk University
Faculty of ScienceMaster programme / odbor:
Physics / Plasma Physics
Práce na příbuzné téma
-
Application of coplanar dielectric barrier discharge for modification of printed functional coatings
Július Vida -
Povrchová úprava polymerních fólií v plazmatu buzeném za atmosférického tlaku
Slavomír Sihelník -
Povrchová úprava krystalického křemíku v bariérovém výboji
Martin Haničinec -
Application of coplanar dielectric barrier discharge for modification of printed functional coatings
Július Vida -
Povrchová úprava krystalického křemíku v bariérovém výboji
Martin Haničinec -
Surface modification of plasma synthesized silicon nanocrystals using plasma activated water
Filip Matějka -
Modification of semiconductors and oxides in plasma generated at atmospheric pressure
Dana Skácelová -
Preparation of nanostructured carbon films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
Adrian Stoica