Depozice a charakterizace tenkých organosilikonových pa SiOx vrstev – Ing. Mgr. Monika Fialová
Ing. Mgr. Monika Fialová
Bakalářská práce
Depozice a charakterizace tenkých organosilikonových pa SiOx vrstev
Deposition and characterization of thin organosilicon and SiOx films
Anotace:
Tato práce se zabývá charakterizací tenkých orgranosilikonových a SiOx vrstev nanášených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze. Vrstvy vznikaly ze směsi hexamethyldisiloxanu a kyslíku. SiOx vrstvy byly deponovány v pulzním i kontinuálním režimu vysokofrekvenčního kapacitně i indukčně vázaného doutnavého výboje při různých hodnotách tlaku. Organosilikonové vrstvy byly nanášeny ve vysokofrekvenčním …víceAbstract:
This thesis deals with the characterization of thin organosilicon and SiOx films, which were prepared by the plasma enhanced chemical vapour deposition from a mixture of hexamethyldisiloxane and oxygen. SiOx films were deposited in radio frequency capacitively and inductively coupled plasma discharges in continuous and pulsed modes at different pressures. Organosilicon films were deposited in radio …více
Jazyk práce: čeština
Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 21. 5. 2009
Identifikátor:
https://is.muni.cz/th/socei/
Obhajoba závěrečné práce
- Obhajoba proběhla 29. 6. 2009
- Vedoucí: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
- Oponent: Mgr. Zuzana Studýnková, Ph.D.
Citační záznam
Plný text práce
Obsah online archivu závěrečné práce
Zveřejněno v Theses:- světu
Jak jinak získat přístup k textu
Instituce archivující a zpřístupňující práci: Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakultaMasarykova univerzita
Přírodovědecká fakultaBakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika
Práce na příbuzné téma
-
Organosilicon coatings based on trimethylsilyl acetate monomer prepared using plasma of RF capacitively coupled glow discharge
Štěpánka Kelarová -
Vývoj technologie plazmochemické depozice z plynné fáze pro zlepšení užitných vlastností polymerních tenkých vrstev
Roman Přibyl -
Vývoj multifunkčních ochranných vrstev pro polykarbonátové substráty
Jan Čupera -
Plazmochemická depozice organosilikonových vrstev ve vysokofrekvenčním doutnavém výboji
Václav Pekař