Depozice a charakterizace tenkých organosilikonových pa SiOx vrstev

Ing. Mgr. Monika Fialová

Bakalářská práce

Deposition and characterization of thin organosilicon and SiOx films

Anotace:

Tato práce se zabývá charakterizací tenkých orgranosilikonových a SiOx vrstev nanášených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze. Vrstvy vznikaly ze směsi hexamethyldisiloxanu a kyslíku. SiOx vrstvy byly deponovány v pulzním i kontinuálním režimu vysokofrekvenčního kapacitně i indukčně vázaného doutnavého výboje při různých hodnotách tlaku. Organosilikonové vrstvy byly nanášeny ve vysokofrekvenčním kapacitně vázaném výboji za stejných podmínek. Následně byly jejich tloušťky, optické vlastnosti a chemické složení určovány optickými metodami elipsometrie a měření odrazivosti v ultrafialové a viditelné oblasti a měření propustnosti v infračervené oblasti. Tyto vlastnosti SiOx vrstev byly porovnány pro indukčně a kapacitně vázaný výboj a různé hodnoty střídy pulzního režimu výboje. Byl ukázán rozdíl mezi SiOx vrstvami a organosilikonovými plazmovými polymery na základě jejich optických vlastností a chemické struktury.

Abstract:

This thesis deals with the characterization of thin organosilicon and SiOx films, which were prepared by the plasma enhanced chemical vapour deposition from a mixture of hexamethyldisiloxane and oxygen. SiOx films were deposited in radio frequency capacitively and inductively coupled plasma discharges in continuous and pulsed modes at different pressures. Organosilicon films were deposited in radio frequency capacitively coupled plasma discharges at the same conditions. Their thicknesses, optical properties and chemical structure were determined by optical methods ellipsometry and reflectance in UV/visible range and transmittance measurement in infrared range. These properties of the SiOx films were compared for inductively and capacitively coupled plasmas and different duty cycles of pulsed discharges. It was shown the difference between SiOx films and organosilicon plasma polymers as concern their optical properties and chemical structure.

Klíčová slova

PECVD, HMDSO, SiOx vrstvy, organosilikonové plazmové polymery, elipsometrie, SiOx thin films, organosilicon plasma polymers, ellipsometry

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 21. 5. 2009

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 29. 6. 2009
• Vedoucí: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
• Oponent: Mgr. Zuzana Studýnková, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika