Bc. Jan Jíša
Diplomová práce
Rtg reflexe na vrstvách fotorezistu
X-ray reflectivity on fotoresist layers
Anotace:
V předložené práci se zbývám studiem tloušťky a povrchové drsnosti vrstev pozitivních a negativních fotorezistů na křemíku pomocí rentgenové reflexe s vysokým rozlišením. Celkem sedm vzorků jsem připravoval metodou spin coating v laboratoři čistých prostorů Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL) Masarykovy univerzity a přeměřoval je v rtg laboratoři ÚFKL. Naměřená data jsem zpracovával s využitím …víceAbstract:
In the present work I study the thickness and surface roughness of positive and negative photoresist layers on silicon using high resolution x-ray reflectivity measurement. Seven samples were prepared in the clean room laboratory at the Department of Condensed Matter Physics at Masaryk University using spin coating and were measured in the local x-ray laboratory. The measured data were processed using …více
Jazyk práce: čeština
Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 13. 5. 2010
Identifikátor:
https://is.muni.cz/th/jl1ja/
Obhajoba závěrečné práce
- Obhajoba proběhla 9. 6. 2010
- Vedoucí: Mgr. Mojmír Meduňa, Ph.D.
Plný text práce
Obsah online archivu závěrečné práce
Zveřejněno v Theses:- světu
Jak jinak získat přístup k textu
Instituce archivující a zpřístupňující práci: Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakultaMasarykova univerzita
Přírodovědecká fakultaMagisterský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika kondenzovaných látek