Depozice tenkých vrstev ve výbojích za atmosférického tlaku

Bc. Filip Studnička

Diplomová práce

Deposition of thin films in atmospheric pressure discharges

Anotace:

V předložené práci studuji homogenní dielektrické bariérové výboje hořící za atmosférického tlaku a depozice tenkých vrstev v těchto výbojích ve směsi hexamethyldisiloxanu s dusíkem a kyslíkem a ve směsi propan-butanu s dusíkem. Provedl jsem základní elektrickou diagnostiku výbojového plasmatu a charakterizaci připravených vrstev pomocí dostupných metod (např. optická mikroskopie, spektroskopická elipsometrie, hloubkově rozlišené indentační měření, FITR spektroskopie, spektrofotometrie v odraženém světle). Studoval jsem vliv teploty substrátu, množství příměsí a nový tvar elektrody při depozici na vlastnosti deponovaných vrstev.

Abstract:

In the present work I studied dielectric barrier discharge at atmospheric pressure and the deposition of thin organosilicon films in nitrogen, oxygen and HMDSO or propane-butane nitrogen atmosphere. I performed basic electric diagnostics of plasma and the deposited films were characterised by optical microscopy, depth sensing indentation, ellipsometry, FTIR spectroscopy etc. I studied the effects of temperature, ammount of admixtures and new type of electrode on the film properties.

Klíčová slova

depozice, organosilikon, HMDSO, výboj za atmosférického tlaku, APTD, deposition, organosilicon, atmospheric pressure discharge

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 13. 5. 2010

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 11. 6. 2010
• Vedoucí: prof. RNDr. David Trunec, CSc.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Magisterský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika plazmatu