Růst grafénu pomocí chemické depozice z plynné fáze za atmosférického tlaku

Bc. Daniel Burda

Bakalářská práce

Graphene growth by chemical vapour deposition at atmospheric pressure

Anotace:

Tato práce se věnuje přípravě grafénu pomocí metody chemické depozice z plynné fáze (CVD), zejména za atmosférického tlaku. Depozice jsou prováděny na měděné substráty různé čistoty v ochranné argonové atmosféře s použitím plynných organických prekurzorů metanu nebo acetylenu při různém nastavení depozičních parametrů. Hlavní náplní práce je nalézt vhodné nastavení těchto parametrů k růstu vrstev grafénu. Pro porovnání metod CVD bylo provedeno několik depozic také za sníženého tlaku. Rozměry zrn jsou upravovány žíháním při teplotě blízké bodu tání mědi. Vzorky byly následně analyzovány pomocí optického konfokálního mikroskopu, skenovacího elektronového mikroskopu a Ramanovy spektroskopie.

Abstract:

This thesis deals with the preparation of graphene using mainly the method of atmospheric pressure chemical vapour deposition (CVD). Depositions are conducted on copper substrates with different state of purity in protective argon atmosphere using gaseous organic compounds – methane or acethylene as precursors at various parameter settings. For comparison of different CVD methods few low pressure depositions were conducted as well. Dimensions of copper planes with same crystalographoc orientation were adjusted by annealing. Samples were analysed using optic confocal microscope, scanning electron microscope and Raman spectroscopy.

Klíčová slova

grafén, syntéza, CVD, Ramanova spektroskopie, skenovací elektronová miskroskopie, graphene, synthesis, Raman spectroscopy, scanning electron microscopy

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 19. 5. 2016

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 28. 6. 2016
• Vedoucí: Mgr. Ondřej Jašek, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Aplikovaná fyzika / Nanotechnologie - aplikovaná fyzika