Bc. Václav Valeš

Master's thesis

Studium mikrodefektů v křemíkových deskách difuzním rozptylem rtg záření

Study of microdefects in silicon wafers by diffuse x-ray scattering
Abstract:
Defekty v křemíku jsou vzhledem k jeho významu jako polovodičového materiálu stále předmětem intenzivního studia. V mé diplomové práci byla k tomuto studiu použita metoda rentgenové difrakce. Přítomnost defektů v krystalu dává vzniknout nekoherentnímu difúznímu záření, jehož intenzita je úměrná hustotě defektů. Pro zjištění hustoty je však nutné intenzitu difúzně rozptýlenou od defektů normovat; v …more
Abstract:
Since silicon is the most important semiconductor material the study of its defects is still of a great importance. In my thesis X-ray diffraction method was used for this study. The presence of defects gives rise to incoherent diffuse scattering whose intensity is proportional to the defect density. For the determination of the defect density it is necessary to normalize the intensity diffusely scattered …more
 

Keywords

Rtg difrakce defekty v křemíku difúzní rozptyl termální difúzní rozptyl
 
Language used: Czech
Date on which the thesis was submitted / produced: 19. 5. 2008
Identifier: https://is.muni.cz/th/taol2/

Thesis defence

  • Date of defence: 12. 6. 2008
  • Supervisor: prof. RNDr. Václav Holý, CSc.

Citation record

Cite this text

Full text of thesis

Contents of on-line thesis archive
Published in Theses:
  • světu
Other ways of accessing the text
Institution archiving the thesis and making it accessible: Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta
Složka Reference to the local database directory of the institution