Optická charakteristika tenkých vrstev nitridu křemíku

Bc. Martin Málek

Bakalářská práce

Optical characterization of silicon nitride thin films

Anotace:

V této bakalářské práci se věnujeme optické charakterizaci nestechiometrických tenkých vrstev nitridu křemíku. Nejprve uvádíme základní teorii chování světla na rozhraní jednoho i více prostředí. Následně zaměřujeme pozornost na způsob výroby a metody měření studovaných vzorků. Zavádíme strukturní i disperzní modely, kterými vzorky popisujeme. Na závěr vyhodnocujeme naměřená data, počítáme hodnoty parametrů teoretického modelu a modelujeme disperzní závislost indexu lomu studovaných vzorků.

Abstract:

In this thesis we study optical properties of non-stoichiometric silicon nitride thin films. First we introduce basic theory of light propagation through single layered and multilayered systems. Next we focus on methods of deposition and measurement of studied samples. We introduce structural and dispersion models, by which are samples described. Lastly we evaluate experimental data, calculate values of optical parameters and model dispersion relation of refractive index.

Klíčová slova

Tenké vrstvy, nitrid křemíku, optická charakterizace, elipsometrie, reflektometrie, optické konstanty, nehomogenita, thin films, silicon nitride, optical characterization, ellipsometry, reflectometry, optical constants, inhomogeneity

Jazyk práce: čeština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 22. 5. 2019

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 25. 6. 2019
• Vedoucí: prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
• Oponent: Mgr. Daniel Franta, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Fyzika / Fyzika