Plazmochemická depozice organosilikonových tenkých vrstev

Bc. Igor Sabol

Bakalářská práce

Plasma enhanced chemical vapor deposition of organosilicon thin films

Abstract:

In this bachelor thesis I deal with the deposition of polymer layers using a capacitivelycoupled high-frequency low-pressure discharge. Hexamethyldisiloxane and oxygen were used as precursors, and the layers were deposited on a glass plates and silicon substrate. During deposition, the deposition conditions were changed, especially pressure, bias and deposition time. Surface properties were analyzed using a confocal microscope, an atomic force microscope, a profilometer, and by measuring the contact angles of the three liquids. Chemical properties were analyzed by photoelectron X-ray spectroscopy and Fourier transform infrared spectroscopy. Inner structure was determined by X-Ray diffraction. Afterwards, these propertieswere analyzed depending on the deposition conditions, especially on the applied bias between the electrodes.

Abstract:

V tejto bakalárskej práci sa venujem depozícii polymérnych vrstiev pomocou vysokofrekvencného nízkotlakového tlecieho výboja s kapacitnou väzbou. Ako prekurzory sú použité hexametyldisiloxan a kyslík, vrstvy boli deponované na sklo a kremíkový substrát. Pri depozíciách boli menené depozicné podmienky, a to tlak, predpätie a depozicný cas. Povrchové vlastnosti boli analyzované pomocou konfokálneho mikroskopu, mikroskopu atomárnych síl, profilometru, a premeraním kontakntých uhlov troch kvapalín. Chemické vlastnosti boli analyzované pomocou fotoelektrónovej röntgenovej spektroskopie, infracervenej spektroskopie s fourierovou transformáciou. Pomocou röntgenovej difrakcie bola analyzovaná vnútorná štruktúra vrstiev. Tieto vlastnosti boli následne analyzované v závislosti na depozicných podmienkach, a to najmä na výške predpätia medzi elektródami.

Klíčová slova

PECVD, tenké vrstvy, prachová plazma, plazmové polyméry, vplyv predpätia, thin films, dusty plasma, plasma polymers, bias influence

Jazyk práce: slovenština

Datum vytvoření / odevzdání či podání práce: 24. 5. 2022

Obhajoba závěrečné práce

• Obhajoba proběhla 27. 6. 2022
• Vedoucí: Mgr. Roman Přibyl
• Oponent: Mgr. Ondřej Jašek, Ph.D.

Masarykova univerzita

Přírodovědecká fakulta

Bakalářský studijní program / obor:
Aplikovaná fyzika / Nanotechnologie - aplikovaná fyzika